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半导体式压力传感器结构及动作说明
发布时间:2024-01-02        浏览次数:9        返回列表
    传感器芯片的结构 
  与通常的 IC 制造工序*样,通过杂质扩散,在硅片受压部(硅隔膜)形成硅规。
  
  当对硅芯片施加压力时,应变计电阻会根据偏转而变化,并转换为电信号。(压阻效应)
  
  这种应变计的特点是应变系数大。(金属规格为2-3,而硅规格为10-100)。
  
  结果,可以获得高输出,使得制造厚隔膜成为可能,这提高了压力传感器的耐压性。

  
  目标机型
  半导体型压力传感器
  
  VDP4、VSW2(低压用)等
  
  半导体膜片式压力传感器的结构及动作说明
  
  半导体膜片压力传感器由与被测介质直接接触的高耐腐蚀金属膜片(相当于哈氏合金C-22、SUS316L等)和检测压力的硅片(硅膜片)组成通过封闭的硅油。 ),它采用双隔膜系统。
  
  SUS316L膜片(或相当于Hastelloy C-22)通过压力入口直接与被测介质接触。。[当连接螺纹为 G3/8 时,使用 O 型圈(氟橡胶)密封管道。] ]
  
  特征  
  我们可以制造各种可以测量正压、负压、复合压力和*对压力的传感器元件。
  
  与介质直接接触的受压部分材质相当于哈氏合金C-22,可采用SUS316L制造,具有优良的耐腐蚀性能。
  
  由于检测压力的硅芯片的厚膜片具有出色的耐压性